INVESTIGATION OF THE SPUTTERING CONDITIONS ON THE DEPOSITION OF THE NbN THIN FILMS ONTO GLASS AND Si/SiO SUBSTRATES

Authors : Atilgan Altinkök

Pages : 71-83

View : 10 | Download : 8

Publication Date : 2020-04-29

Article Type : Research

Abstract :NbN ince filmler elektronik cihazlar için çok kullanışlı süper iletken malzemelerdir. Püskürtme biriktirme tekniğini kullanması teknoloji uygulamaları için cam veya SiO üzerinde NbN ince filmlerin üretilmesi için ucuz bir alternatiftir. . Bu çalışmada, NbN ince filmler, reaktif magnetron püskürtme yöntemi ile cam, Si ve SiO alt tabakaları üzerine kaplanmıştır. Saf Nb metali, Argon ve azot gazlarının farklı karşım oranlarında NbN ince filmlerinin üretimi için kullanılmıştır. Çeşitli alttaş sıcaklıkları, püskürtme gücü ve Argon / Azot gazı oranının süperiletken geçiş sıcaklığı (T c )  üzerine etkileri araştırılmıştır. Alttaş sıcaklığının veya püskürtme gücünün arttırılmasının T c 'yi de arttığı görülmüştür. Bunun sonunda optimum sıcaklık değerleri, direnç-sıcaklık (R-T) eğrileri ve Artık Direnç Oranı (RRR) hesaplaması yardımı ile bulunmuştur. Kaplama sırasındaki alttaş sıcaklığının ve azot gazı akış değerlerinin tercih edilen yönlendirmeyi güçlü bir şekilde etkilediği gözlenirken, ince filmlerin kritik sıcaklığı orijinal vakumun kalitesinden etkilenmektedir. A yrıca T c üretilen NbN filmlerinin kalitesi kaplama işlemi süresindeki Azot ve Argon basınçlarına da oldukça bağımlıdır.
Keywords : Kritik Sıcaklık, NbN, İnce Film, Kalıntı Direnç Oranı, Süperiletkenlik