- Pamukkale Üniversitesi Mühendislik Bilimleri Dergisi
- Vol: 28 Issue: 7
- Fonksiyonel gruplu polistirenlerin fotolitografik özelliklerinin incelenmesi
Fonksiyonel gruplu polistirenlerin fotolitografik özelliklerinin incelenmesi
Authors : Alaaddin Cerit
Pages : 993-1000
View : 17 | Download : 12
Publication Date : 2022-12-30
Article Type : Research
Abstract :Bu çalışmada farklı molekül kütleli PS’lerin fonksiyonel modifikatörlerle (maleik anhidrit (MA) ve asetik anhidrit (AA)), BF3O(C2H5)2 katalizörlüğünde optimum reaksiyon şartlarında kimyasal modifikasyonu yapılmış ve aromatik halkasına aktif fonksiyonel gruplar (MAPS: -CO-CH=CH-COOH ve AAPS: -CO-CH3) bağlanmıştır. Sentezlenen modifiye PS’lere bağlanan karboksil ve asetil grupların yapısına bağlı olarak fotolitografik özellikleri, çözünürlük tayini ve FTIR analizi ile incelenmiş ayrıca sensibilizatör-aktivatör borneol maddesinin fotolitografik özellikler üzerindeki etkisi araştırılmıştır. Sonuçta optimum reaksiyon şartları PS: modifikatör mol oranı 1:0.2; modifikatör: katalizör mol oranı 1:1 olarak bulunmuş ve düşük molekül ağırlıklı PS’lerin yapısına daha fazla fonksiyonel grup bağlandığı tespit edilmiştir. Modifiye PS’lerin toluende PS’ye göre daha az çözündüğü (sırasıyla %70.04 ve %85.48) tesbit edilmiştir. Işınlamadan sonra yapılan çözünürlük testlerinde en iyi değer %54.51 ile MAPS’den elde edilirken AAPS’nin çözünürlük değerlerinde dikkate değer bir değişim olmamıştır (%83.46). Borneol maddesinin ilavesinden sonra yapılan ışınlama işlemiyle MAPS’nin çözünürlük değeri %49.67’ye kadar düşerken, AAPS’nin çözünürlük değerlerinde önemli bir değişim olmamıştır (%84.50). Ayrıca MAPS’lerde ışınlama süresine bağlı olarak çözünürlük değerlerinde azalma gözlemlenirken bu durum AAPS’lerde görülmemiştir. UV ışınlama sonrasında MAPS’lerin çözünürlüğündeki azalma MAPS’lerin ışığa duyarlılık özelliği gösterdiğini ve ışınlama etkisiyle çapraz bağlanma yeteneğine sahip negatif fotorezist olduğunu göstermiştir. Borneol’ün de fotorezist özelliği desteklediği görülmüştür. AAPS’ler ise PS’ye göre daha düşük çözünürlük değerleri vermesine karşın UV-ışınlamadan sonra çözünürlük değerlerinde dikkate değer bir değişiklik görülmemiş ve AAPS’lerin fotorezist özellik göstermediği belirlenmiştir.Keywords : Fotorezist, polistiren, modifikasyon, anhidrit